Суутек хлориди (HCl)

Техникалык параметрлери:

Суутек хлориди HCl химиялык формуласына ээ.Суутек хлоридинин молекуласы хлор атомунан жана суутек атомунан турат.Бул ачуу жыты бар түссүз газ.Коррозиялык, күйбөгөн газ, суу менен реакцияга кирбейт, бирок сууда оңой эрийт.Көбүнчө абада туз кислотасынын түтүндөрү түрүндө болот.Суутек хлориди этанолдо жана эфирде оңой эрийт, ошондой эле көптөгөн башка органикалык заттарда эрийт;сууда абдан оңой эрийт, 0°С, 1 көлөм суу болжол менен 500 көлөмдөгү суутек хлоридин эрите алат.Анын суудагы эритмеси көбүнчө туз кислотасы, ал эми илимий аталышы туз кислотасы деп аталат.Концентрленген туз кислотасы учуучу.Хлор суутек түссүз, эрүү температурасы -114,2°С, кайноо температурасы -85°С.Ал абада күйбөйт жана термикалык жактан туруктуу.Болжол менен 1500°С чейин чирибейт.Ал муунтуучу жыты бар, жогорку дем алуу жолдорун катуу дүүлүктүрөт, көздү, терини жана былжыр челди жейт.Жыштыгы абадан чоң.Кургак суутек хлоридинин химиялык касиеттери өтө активдүү эмес.щелочтуу металлдар жана щелочтуу жер металлдар суутек хлоридинде күйүшү мүмкүн, ал эми натрий күйгөндө ачык сары жалын чыгарат.Суутек хлориди мунай химиялык өнөр жайында катализаторлордун эффективдүүлүгүн жана регенерациясын жогорулатуу жана мунайдын илешкектүүлүгүн жогорулатуу үчүн колдонулат;ал хлоросульфон кислотасын, синтетикалык каучукту ж.б. өндүрүү үчүн колдонулушу мүмкүн;ошондой эле боёкторду, жыпар жыттуу заттарды, дары синтезин, ар кандай хлориддерди жана коррозия ингибиторлорун жасоодо жана металлды тазалоодо, пиклингде, электропластикада, күйгүзүүдө, тазалоодо же катуу металлды өндүрүүдө колдонсо болот.Жогорку тазалыктагы хлордуу суутек газы кремнийдин эпитаксиалдык өсүшүндө, буу фазасын жылтыратууда, алууда, иштетүүдө жана электроника тармагында тазалоо процесстеринде кеңири колдонулат.

Колдонмо:

①Материал:

Көпчүлүк хлордуу суутек туз кислотасын өндүрүүдө колдонулат.Ал ошондой эле башка өнөр жай химиялык кайра курууда маанилүү реагент болуп саналат.

②Жарым өткөргүч:

Жарым өткөргүч өнөр жайында жарым өткөргүчтүн кристаллдарын иштетүү жана кремнийди трихлоросилан (SiHCl3) аркылуу тазалоо үчүн да колдонулат.

③Лаборатория:

Лабораторияда газдын суусуз формалары хлорид негизиндеги Льюис кислоталарын түзүү үчүн өзгөчө пайдалуу, ал Льюис участоктору иштеши үчүн таптакыр кургак болушу керек.

Кадимки пакет:

Артыкчылыктары:

①Жогорку тазалык, акыркы жабдуулар;

②ISO күбөлүк өндүрүүчүсү;

③Fast жеткирүү;

④Ар бир кадамда сапатты көзөмөлдөө үчүн он-лайн талдоо системасы;

⑤Жогорку талап жана толтуруунун алдында цилиндрди иштетүү үчүн кылдат процесс;